真空氣氛立式熱處理爐

ZYV-1200 系列高溫真空氣氛立式熱處理爐以專業(yè)立式結構設計，精準適配吊燒與淬火等垂直方向?qū)嶒炐枨蟆：诵牟捎脙?yōu)質(zhì)電阻絲加熱元件，發(fā)熱效率穩(wěn)定，可實現(xiàn)均勻的立體加熱場：額定溫度達 1100℃，滿足常規(guī)高溫實驗持續(xù)運行；溫度可短時升至 1200℃（持續(xù)≤30min），靈活應對短時極限溫度場景。

控制方式：采用全自動控制系統(tǒng)，從室溫到設定溫度設定程序后，可以自動運行。系統(tǒng)可控硅控制，控溫系統(tǒng)模塊化設計，結構簡單，維修方便。采用宇電儀表，可編程序30段，可自由設定恒溫與保溫曲線，無干擾切換功能，儀表具有溫度校正和補償功能。

使用注意事項

（1）爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa

（2）由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全

（3）對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）

（4）氣體的流量應限制在<200 SCCM（或200ml / min）

公司簡介

植根合肥科技圈，安徽助研儀器有限公司以技術創(chuàng)新驅(qū)動，專注科研設備制造。技術源自高校成果轉化，核心團隊深耕十余年，為設備保駕護航。

    聚焦科研需求，研發(fā)制造高溫爐、催化劑評價等系列設備，覆蓋科研院所、實驗室及工業(yè)場景，提供定制化解決方案，加速科研進程。

     以 “創(chuàng)新、品質(zhì)、服務" 為核心競爭力，構建選型、安裝到售后的全周期服務，致力成科研信賴伙伴。

    盼與科研伙伴協(xié)同創(chuàng)新，共推設備升級、成果轉化，攜手發(fā)展。